参观结束，众人都心情复杂，谁也没想到恒创集团会这时候拿出光刻机啊，华国芯片竟然能做到全部国产，并且世界领先！

要知道32纳米，目前就是最顶尖的芯片，英特尔最新产品都用的这个。

英特尔是全球最大的个人计算机零件和半导体芯片制造商之一，拥有自己的晶圆制造工厂，不过他们的光刻机也是阿斯麦买来的，并且现在世界上最先进的光刻机还是深紫外线（DUV）光刻机。

他们能造32纳米芯片是用了193nm沉浸式光刻技术，目前正在研发 22纳米工艺，但依旧会使用 193纳米波长的深紫外线。

等到2017年，阿斯麦才将EUV（极紫外线）光刻机量产，而现在陆恒的光刻机技术对标的正是EUV光刻机。

别看现在生产的是32纳米，可只要升级一些光刻机的零部件，陆恒很快就能推出22纳米。

按照前世的发展，不管是英特尔还是三星蛙机电芯片制程升级都是缓慢过程，2012年英特尔会使用DUV光刻机率先制造出22纳米芯片。

再过一两年，三星和蛙机电技术升级，推出16纳米芯片。

15年英特尔三星蛙机电三家厂商都推出了14纳米芯片，到了17年推出10纳米芯片，也是从这时候开始用了EUV光刻机技术升级速度加快。

18年就进入了7纳米时代，但已经快到极限了，随后又过了两三年，2020年以后才出现5纳米制程芯片。

也是陆恒前世穿越时，最先进的芯片技术。

更先进的3纳米技术一直到2024年，还在研发中。

陆恒现在这套技术融合了多条技术路线，由系统优化而来，包含了X光射线、纳米压印，还用到了水滴光源技术，对标的是7年后量产的EUV光刻机。

与之相比最大的优点便是可以快速升级，没有技术阻碍。

不像是现在主流使用的DUV光刻机，就算再怎么技术改进，也没办法造10纳米以下的芯片。

陆恒的技术却不存在这个问题，只要升级关键部件就能沿着技术路线一直用到5纳米甚至3纳米。

新的光刻机还没有命名，刚好参观时别人也问起这项技术的名字，陆恒想了想说道：“我们光刻机叫做水滴光刻机，和DUV光刻机还有阿斯麦研发的EUV光刻机相比，光源上已经领先好几代。”

“现在生产的是32纳米芯片，到很快就可以升级，几年内达到10纳米左右，到时候32纳米现在高端手机使用的芯片，都会变成低端芯片，你们可以用在电视洗衣机扫地机器人等等产品上。”

“再结合我们研祥推出的通讯技术，万物互联时代智能时代很快将到来！”

陆恒没有公开AI成果，等到AI结合无数使用芯片的智能产品，那才是真正的智能时代。

前世陆恒有件事一直没想通，可能是他当时站的高度格局不一样，不知道为什么海外的公司将AI训练模型全都公开了，一个资深程序员甚至用自己的电脑租用服务器都能训练AI大模型。

他现在就拥有这种技术，但完全没有公开的想法。

陆恒也想过，公开AI大模型技术难道是为了建立标准，或者是引爆整个产业做大蛋糕？